【摘 要】
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利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN:Mg薄膜,对不同源流量In-GaN:Mg材料特性进行了研究。光学和电学特性观测表明,当外延生长温度在760℃,三甲
【机 构】
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北京工业大学电子信息与控制工程学院,
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利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN:Mg薄膜,对不同源流量In-GaN:Mg材料特性进行了研究。光学和电学特性观测表明,当外延生长温度在760℃,三甲基铟(TMIn)摩尔流量不变时,随CP2Mg和Ⅲ族源摩尔比([CP2Mg]/[Ⅲ])增加,当In摩尔成分增加,空穴浓度也线性增加;当[CP2Mg]/[Ⅲ]比为1.12×10-3时获得4.78×1019cm-3高空穴浓度。通过原子力显微镜(AFM)观察到粗化的表面,采用InGaN:Mg薄膜作为接触层制备的发光二极管(LED)比常规LED的电荧光强度提高28%。
InGaN: Mg thin films were grown on sapphire substrate by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) technique. The properties of In-GaN: Mg materials with different source currents were studied. The optical and electrical properties of the samples show that with the molar flow rate of trimethylindium (TMIn) at 760 ℃ and the molar ratio of CP2Mg to Ⅲ source ([CP2Mg] / [Ⅲ]) increasing, When the concentration of [CP2Mg] / [Ⅲ] was 1.12 × 10-3, a high hole concentration of 4.78 × 1019cm-3 was obtained. By observing the roughened surface by atomic force microscopy (AFM), the light emitting diode (LED) prepared using InGaN: Mg film as a contact layer shows a 28% improvement in the electrical fluorescence intensity over the conventional LED.
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