Fe膜及磁场沉积对TbDy—Fe膜磁伸性能的影响

来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：pldpl

【摘要】

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为了提高TbDy-Fe膜的低场磁敏性，采用离子柬溅射沉积（IBSD）法制备TbDy-Fe超磁致伸缩薄膜，分别研究了纯Fe膜与TbDy-Fe单层膜、TbDy-Fe／Fe耦合多层膜的复合及磁场下溅射沉积对TbDy-F

【作者】

：

毛宏英周白杨雷德辉汤乐明邓光华

【机构】

：

福州大学材料科学与工程学院

【出处】

：

微细加工技术

【发表日期】

：

2008年3期

【关键词】

：

离子束溅射沉积 TbDy-Fe膜复合耦合磁致伸缩 IBSD TbDy-Fe film composite coupling magnetost

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为了提高TbDy-Fe膜的低场磁敏性，采用离子柬溅射沉积（IBSD）法制备TbDy-Fe超磁致伸缩薄膜，分别研究了纯Fe膜与TbDy-Fe单层膜、TbDy-Fe／Fe耦合多层膜的复合及磁场下溅射沉积对TbDy-Fe膜磁致伸缩性能的影响；用振动样品磁强计（VSM）测试薄膜磁滞回线，用电容位移测量仪测试薄膜悬臂梁自由端偏转量，并计算出磁致伸缩系数λ。结果表明，由IBSD法制备的纯Fe膜、TbDy-Fe单层膜、TbDy-Fe／Fe复合膜的易磁化轴均平行于膜面，TbDy-Fe／Fe复合膜在低场下的磁化强度与磁导率

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