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本工作利用高频介质阻挡放电对较低气压(70～1 330 Pa)Xe/Cl2混合气体中XeCl准分子的形成过程进行研究.通过探测不同Xe/Cl2混合气压和不同Xe/Cl2混合比条件下放电等离子体在285～315 nm波长范围的荧光发射谱,得到了XeCl准分子在308 nm附近的荧光发射以及荧光强度随气压变化曲线.得出该实验条件下生成XeCl准分子的最佳Xe/Cl2混合比为4∶1.