由氨解法制备的Si3N4粉末的表面元素状态

来源 :北京科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jeff2047

【摘要】

：

用XPS表面分析,研究了由氨解法在不同温度下热解所得的Si3N4粉末,并与由硅粉氮化所得的商用Si3N4粉末作了比较。由氨解法制备

【作者】

：

葛昌纯夏元洛谢建刚黄向东丁宇张建伟

【机构】

：

北京科技大学特种陶瓷粉末冶金研究室,北京科技大学特种陶瓷粉末冶金研究室

【出处】

：

北京科技大学学报

【发表日期】

：

1991年S2期

【关键词】

：

表面光电子能谱分析氮化硅粉末热分解 XPS Si3N4 powder thermal decomposition

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用XPS表面分析,研究了由氨解法在不同温度下热解所得的Si3N4粉末,并与由硅粉氮化所得的商用Si3N4粉末作了比较。由氨解法制备的Si3N4粉末其表面存在两种状态的氧:结合状态的氧和吸附态的氧,其表面组成为Si

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