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新型抛光垫沟槽及其在化学机械抛光中的作用研究进展
新型抛光垫沟槽及其在化学机械抛光中的作用研究进展
来源 :金刚石与磨料磨具工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong435
【摘 要】
:
化学机械抛光过程中,抛光垫性能是影响抛光质量和抛光效率的重要因素之一,而抛光垫的性能又受其表面沟槽结构形状的影响。在介绍几种常见抛光垫沟槽结构形状的特性及其作用研究
【作 者】
:
方照蕊
魏昕
杨向东
邹微波
【机 构】
:
广东工业大学机电工程学院
【出 处】
:
金刚石与磨料磨具工程
【发表日期】
:
2012年2期
【关键词】
:
化学机械抛光
抛光垫
表面沟槽
chemical mechanical polishing polishing pad surface groove
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化学机械抛光过程中,抛光垫性能是影响抛光质量和抛光效率的重要因素之一,而抛光垫的性能又受其表面沟槽结构形状的影响。在介绍几种常见抛光垫沟槽结构形状的特性及其作用研究的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,总结了几种新型抛光垫沟槽对抛光效果的影响,为抛光垫沟槽特性的进一步研究提供参考。
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