【摘 要】
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W-Ti合金薄膜已经成功应用于Cu、Al布线的扩散阻挡层,Ti质量分数为10-30％的W-Ti合金通过溅射法制备的W-Ti薄膜已作为Cu布线扩散阻挡层,既能够阻挡Cu的扩散又能有效改善Cu薄膜
【机 构】
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长安大学材料科学与工程学院 陕西·西安710064长安大学电子与控制工程学院 陕西·西安 10054;
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W-Ti合金薄膜已经成功应用于Cu、Al布线的扩散阻挡层,Ti质量分数为10-30％的W-Ti合金通过溅射法制备的W-Ti薄膜已作为Cu布线扩散阻挡层,既能够阻挡Cu的扩散又能有效改善Cu薄膜与基体(Si和SiO2等)的结合强度,正成为Cu布线扩散阻挡层的主导材料之一.因此研究出工艺简单、致密度高、含单一富W固溶体的W-Ti合金成为目前研究热点.本文采用不同球磨时间细化的TiH2粉和W粉液相烧结制备W-10Ti合金.
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