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研究了微量薄模Ｎｉ－Ｗ合金镀层中钨的光度法，进行了镀层的溶解，介质选择，显色反应，放置时间及部分子的干扰试验。测量范围为０μｇ／ｍＬ－１５μｇ／ｍＬ。
微量薄膜Ni—W合金镀层中钨的测定
【摘 要】
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研究了微量薄模Ｎｉ－Ｗ合金镀层中钨的光度法，进行了镀层的溶解，介质选择，显色反应，放置时间及部分子的干扰试验。测量范围为０μｇ／ｍＬ－１５μｇ／ｍＬ。
【机 构】
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雁北师范学院化学系,天津大学应用化学系
【出 处】
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山西大学学报：自然科学版
【发表日期】
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1999年3期
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