用XPS和XAES分析电化学沉积的DLC膜

来源 :无机化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jaczolo

【摘要】

：

采用电化学沉积方法,以甲醇溶剂作碳源,直流电压作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜.通过研究石墨、金刚石和样品薄膜的XPS和XAES谱图特征,证明了此方法沉积得到的是DLC薄膜;

【作者】

：

阎兴斌徐洮王博杨生荣

【机构】

：

中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室

【出处】

：

无机化学学报

【发表日期】

：

2003年6期

【关键词】

：

电化学沉积制备类金刚石碳膜 DLC膜 XPS XAES 电子能谱结构特征 DLC film electrochemical deposition XPS

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采用电化学沉积方法,以甲醇溶剂作碳源,直流电压作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜.通过研究石墨、金刚石和样品薄膜的XPS和XAES谱图特征,证明了此方法沉积得到的是DLC薄膜;利用曲线拟合技术在C1,电子能谱图中拟合出sp3峰与sp2峰,并计算出样品薄膜中sp3碳的相对含量为55%;研究石墨、金刚石和样品薄膜的一阶微分XAES谱图,用线性插入法估算出样品薄膜中sp3碳的相对含量为60%.

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