【摘 要】
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介绍了一种静电场辅助的新型微压印光刻技术,并对其工艺过程进行了深入的理论研究。首先,采用数值仿真软件COMSOL~（TM） Multiphysics,建立了静电场辅助的压印光刻瞬态仿真分析
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,中国科学院大学,中国人民解放军63861部队,中国科学院西安光学精密机械研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（No.61475156,No.61361166004,No.51275504）, 吉林省基金资助项目（No.20140519002JH,No.20140519007JH）, 深圳市科创委基金资助项目（No.KQCX2015032416183981）
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介绍了一种静电场辅助的新型微压印光刻技术,并对其工艺过程进行了深入的理论研究。首先,采用数值仿真软件COMSOL~（TM） Multiphysics,建立了静电场辅助的压印光刻瞬态仿真分析模型,讨论了不同时域微结构的演化过程。然后,详细分析了微结构的成型与仿真实验参数的定性关系,发现：适当地减小极板间距、模板凸起结构周期,同时增加模板的凸起高度、初始聚合物薄膜厚度和电压有助于微纳结构的成型。最后,通过仿真实验参数优化,得到了带有31μm中空结构的球冠微结构。与传统压印方法相比,静电场辅助的微压印技术工艺过
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