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对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作详细的分析，提出了更加合理精确的计算模型，并与其他论文中的实验数据作了初步比较，模型与实验更加接近，本文所提供的方法也适用于有减反膜的光刻工艺对准信号的分析。
投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型
【摘 要】
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对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作详细的分析，提出了更加合理精确的计算模型，并与其他论文中的实验数据作了初步比较，模型与实验更加接近，本文所提供的方法也适用于
【机 构】
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中国科学院上海冶金所微电子分部
【出 处】
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电子学报
【发表日期】
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1999年7期
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