【摘 要】
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近年来,电化学原子层沉积(Electrochemical atomic layer deposition,E-ALD)技术在制备催化、光电及热电等功能薄膜的研究和应用方面取得了较大进展.概述了E-ALD的发展历史、
【机 构】
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湖北工业大学机械工程学院; 湖北工业大学绿色轻工材料湖北省重点实验室; 云南师范大学学报编辑部; Institut Matériaux Microélectronique
【基金项目】
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绿色轻工材料湖北省重点实验室基金资助项目([2013]2-14,[2013]2-6);国家自然科学基金资助项目(50901033);云南师范大学博士科研启动基金资助项目
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近年来,电化学原子层沉积(Electrochemical atomic layer deposition,E-ALD)技术在制备催化、光电及热电等功能薄膜的研究和应用方面取得了较大进展.概述了E-ALD的发展历史、沉积原理、研究及应用情况,介绍了课题组研发的E-ALD系统的构成和生长过程的控制机理.
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