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用２０ｋｅＶ的Ａｒ＾＋，Ｎ＾＋离子分别以（５００－２５００）×２．６×１０＾１３ｉｏｎｓ／ｃｍ＾２，（５００－４０００）×２．６×１０＾１３ｉｏｎｓ／ｃｍ＾２的剂量对番茄果皮进行刻蚀，刻蚀前后的榈厚度用α透射能谱进行测量，借助Ｔｒｉｍ９７计算程序对刻蚀厚度进行标定。
低能离子束刻蚀番茄果皮的α透射能谱研究
【摘 要】
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用２０ｋｅＶ的Ａｒ＾＋，Ｎ＾＋离子分别以（５００－２５００）×２．６×１０＾１３ｉｏｎｓ／ｃｍ＾２，（５００－４０００）×２．６×１０＾１３ｉｏｎｓ／ｃｍ＾２的剂量对番茄果皮进行刻蚀，刻蚀前后的榈厚度用α透射能谱进行测量，借助Ｔｒｉｍ９７计算程序对刻蚀厚度进行标定。
【机 构】
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郑州大学物理工程学院,中国科学院等离子体物理研究所
【出 处】
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生物物理学报
【发表日期】
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1999年3期
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