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磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用。本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上，详细分析了溅射工艺参数（溅射功率、温度、溅射气压、氧分压）对BST薄膜性能的影响，并提出了研究中需要解决的一些问题。
工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响
【摘 要】
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磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用。本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上，详细分析了溅射工艺参数（溅射功率、温度、溅射气压、氧分压）对BST薄
【机 构】
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重庆科技学院冶金与材料工程学院
【出 处】
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硅酸盐通报
【发表日期】
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2013年12期
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