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通过赫尔槽试验和方槽试验研究了新型添加剂K.1(胺类与环氧化合物的缩合物)用于焦磷酸盐溶液体系电镀白铜锡的镀液组成和工艺。结果表明,最佳镀液组成和工艺条件为:K4P207。3H20300g/L,Sn2P2078g/L,Cu2P2074H2012g/L,添加剂K-12.4~4.0mL/L,还原剂2g/L,pH8.5~9.5,电流密度0.7~1.2A/din2,温度25℃。添加剂K.1作为光亮剂,具有细化晶粒的作用,但不具有整平能力,其用量为0.8~4.0mL/L时均能得到sn含量为45%~55%的白铜锡镀层