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以现场紫外－可见及现场红外光谱电化学方法研究四（对－辛酰氧基）苯基足啉锰在二甲亚砚中的电还原过程。结果表明，该金属足啉配合物在非质子介质中经历了二步单电子还原反应，氧化态敏感带出现在１５２２ｃｍ＾－１，１４６４ｃｍ＾－１，１２０４ｃｍ＾－１，１００５ｃｍ＾－１和８０７ｃｍ＾－１附近，随中心金属氧化态降低，吸收带均向低滤烽方向移动。