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针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题，从摩擦学理论出发计算模拟了磨粒平均相对速度、研磨盘磨损的变化过程，揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向的影响规律，对晶片研抛机运动参数的合理选择具有普遍的意义。
晶片行星式研磨抛光机运动模拟研究
【摘 要】
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针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题，从摩擦学理论出发计算模拟了磨粒平均相对速度、研磨盘磨损的变化过程，揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向的影响规律，对晶片研
【机 构】
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沈阳建筑工程学院机械系
【出 处】
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沈阳建筑工程学院学报
【发表日期】
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2000年4期
【基金项目】
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辽宁省科委资助!(982 2 0 11)
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