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日本电装公司已开发成功在硅底板上一体形成微小棱镜和透镜等光学元件阵列的技术。该技术可以利用深反应离子刻蚀（DRIE）工艺，形成数百微米见方的微小光学元件阵列。该公司虽然没有公布技术的具体用途，但是因为具有控制激光方向的功能，估计可用于车载领域的障碍物检测。
电装开发出降低激光扫描仪成本的技术
【摘 要】
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日本电装公司已开发成功在硅底板上一体形成微小棱镜和透镜等光学元件阵列的技术。该技术可以利用深反应离子刻蚀（DRIE）工艺，形成数百微米见方的微小光学元件阵列。该公司虽然没
【出 处】
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光机电信息
【发表日期】
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2007年9期
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