【摘 要】
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使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对Ta2O5薄膜折射率与面吸
【基金项目】
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Scientific Research Development Funds of Fujian Agriculture and Forestry University(107/KF2015096).
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使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对Ta2O5薄膜折射率与面吸收的影响.总结了退火温度与薄膜折射率与面吸收的对应关系,并给出简单的理论解释.该结论对Ta2O5薄膜的制备及光学性能调控提供一定的参考价值.
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