【摘 要】
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一氧化硅(sio)薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要.选用纯度为99.99％的sio块状材料,在5×10-4 pa背景
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所,中国科学院研究生院
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一氧化硅(sio)薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要.选用纯度为99.99％的sio块状材料,在5×10-4 pa背景真空中用钼舟蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在1.2～1.5 nm/s范围,硅基片上的膜层厚度约为2.2～2.4 μm,在不同沉积温度下制备样品.用傅里叶红外光谱仪分别测试新鲜薄膜和充分浸湿薄膜的光谱曲线,根据波长漂移理论,计算出薄膜的聚集密度.结果表明:聚集密度随沉积温度的升高而增加,从常温沉积的约0.91上升到
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