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简要评述了磁控溅射法制备氮化碳（CNx）薄膜的研究进展的现状，以及磁控溅射法制备氮化碳（CNx）薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响，展望了氮化碳研究的发展趋势。
磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展
【摘 要】
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简要评述了磁控溅射法制备氮化碳（CNx）薄膜的研究进展的现状，以及磁控溅射法制备氮化碳（CNx）薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响，展望了氮化碳研究的发展趋势。
【机 构】
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江苏大学材料学院,镇江船艇学院,江苏工业学院
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2005年F05期
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