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由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大，文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料，采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系，研究了制备工艺对薄膜性能的影响，从理论和实验2个方面得出了制备的多层减反射膜系在450-625nm波段具有明显的增透效果，在520nm处有98％的透过率。
SiO2/TiO2减反膜系的制备和性能测试
【摘 要】
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由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大，文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料，采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系，研究了制备工艺对薄膜性能的影响，从理论
【机 构】
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合肥工业大学电子科学与应用物理学院
【出 处】
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合肥工业大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2012年4期
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