【摘 要】
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刻蚀技术是制作微电子、光电子和声电器件十分重要的工艺.射频、微波电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀技术比传统的湿法刻蚀和反应性离子刻蚀等方法有较多的优点,已用于薄膜和
【机 构】
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四川压电与声光技术研究所 永川632164
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刻蚀技术是制作微电子、光电子和声电器件十分重要的工艺.射频、微波电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀技术比传统的湿法刻蚀和反应性离子刻蚀等方法有较多的优点,已用于薄膜和半导体基片材料的刻蚀.本文主要就这些新的ECR等离子体刻蚀技术以及它们对几种材料的刻蚀特性予以探讨.
Etching technology is a very important process for fabricating microelectronics, optoelectronics and acousto-electric devices.RF and microwave electron cyclotron resonance (ECR) plasma etching have more advantages than traditional methods such as wet etching and reactive ion etching Has been used to etch thin films and semiconductor substrate materials.This paper mainly discusses these new ECR plasma etching technologies and their etching properties to several materials.
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