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采用萃取法制备了具有微孔结构的偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物[P(vDF-HFP)]膜,其中掺杂不同质量分数的硅钨酸锂(Li4SiW12O40),吸附碳酸丙烯酯(Pc)后,具有10-4S·cm-1的离子电导率.DSC分析结果显示,聚合物电解质的结晶度随Li4SiW12O40掺杂量的增加而降低.利用电化学阻抗法测试了聚合物电解质的离子电导率,发现当聚合物膜中掺杂8.5%(质量百分数)的Li4SiW12O40时,聚合物电解质具有较高的离子电导率(3.56×10-4S·cm-1).采用