【摘 要】
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随着集成电路工艺进入超深亚微米和纳米数量级,单位面积上的功耗消耗和电流密度明显上升,而这会导致超大规模集成电路中电源网络的IR Drop问题,对于超大规模集成电路进行IR D
【基金项目】
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上海市软件和集成电路产业发展专项基金（15RJ0222）
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随着集成电路工艺进入超深亚微米和纳米数量级,单位面积上的功耗消耗和电流密度明显上升,而这会导致超大规模集成电路中电源网络的IR Drop问题,对于超大规模集成电路进行IR Drop分析就成为必要。为了提高深亚微米工艺下低功耗芯片的性能和成品率,有必要对超大规模低功耗芯片的IR Drop成因进行研究,并运用EDA工具对其进行分析,通过IR Drop分析结果找出芯片电源网络的缺陷,并对IR Drop敏感区域进行相关干预,并获得预期的改善。
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