【摘 要】
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目的利用高功率脉冲磁控溅射技术离化率高、溅射离子能量高等优点,在Cr-Al-N涂层中添加Si元素研制a-Si3N4包裹nc-(Cr,Al)N的纳米复合涂层,通过改变反应沉积时的N2/Ar比来调控
【机 构】
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天津职业技术师范大学天津市高速切削与精密加工重点实验室,中国科学院金属研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(51301181,51875555);天津市科技军民融合重大专项项目(18ZXJMTG00050);中青年骨干创新人才培养计划项目(RC180203);天津职业技术师范大学校级科研项目(KJ1812);研究生创新基金项目(YC18-02)~~
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目的利用高功率脉冲磁控溅射技术离化率高、溅射离子能量高等优点,在Cr-Al-N涂层中添加Si元素研制a-Si3N4包裹nc-(Cr,Al)N的纳米复合涂层,通过改变反应沉积时的N2/Ar比来调控涂层成分与结构,实现纳米复合Cr-Al-Si-N涂层性能优化。方法采用高功率脉冲与脉冲直流复合磁控溅射技术制备Cr-Al-Si-N涂层。利用扫描电镜、X射线衍射仪、能谱仪、应力仪、纳米压痕仪、划痕测试仪和摩擦试验机,研究N2/Ar比对涂层成分、结构、力学性能以及摩擦学行为的影响。结果涂层主要由面心立方结构的CrN与
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