表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善

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低辐射玻璃要求具有低的辐射率和高的可见光透射比。目前较为常见的单银高透Low—E产品具有优良的采光和隔热性能,但是膜层机械性能普遍较差,对于玻璃深加工厂的加工设备要求高。通过对单银高透Low—E表面覆层Si。Nt薄膜进行特定比例的掺氧处理,形成Si3NxOy层,改变了膜层表面的特性,增强了其加工的机械性和稳定性,显著提升了单银高透Low—E产品的可加工性。表层改性对于提升单银高透Low—E产品性能,推进其在节能建筑领域的广泛应用具有重要意义。
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