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ITO膜方块电阻测试条件的探讨
ITO膜方块电阻测试条件的探讨
来源 :河南教育学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:tytytytytytytytytyty
【摘 要】
:
本文根据半导体材料薄层方块电阻的测试原理,探讨并提出了ITD膜方块电 阻的测试条件.
【作 者】
:
林钰
齐英
辛荣生
贾晓林
仝奎
【机 构】
:
河南教育学院化学系!河南郑州450003,兰河南省轻工业职工大学!河南郑州450002,郑州大学建工学院材料系!河南郑州450052,郑州大学建工学院材料系!河南郑州450052,郑州大学建工学院材料
【出 处】
:
河南教育学院学报(自然科学版)
【发表日期】
:
2000年02期
【关键词】
:
半导体材料
ITO(铟锡氧化物)方块电阻
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本文根据半导体材料薄层方块电阻的测试原理,探讨并提出了ITD膜方块电 阻的测试条件.
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