SiOx纳米线的热蒸发法制备及表征

来源 :汕头大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：yan2541023

【摘要】

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采用活性炭还原SnO2粉末得到的金属锡作为催化剂，在硅片上生长出SiOx（x在1～2之间）纳米线．分析900℃～1100℃下生长出来的SiOx纳米线发现，温度越高，纳米线越密集，表面也更光滑；分析不同温

【作者】

：

吴萍邹兴权程文德

【机构】

：

汕头大学理学院物理系

【出处】

：

汕头大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2006年4期

【关键词】

：

氧化硅纳米线气-液-固生长模式 silicon oxidc nanowirc vapor-liquid-solid growth mechanism

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采用活性炭还原SnO2粉末得到的金属锡作为催化剂，在硅片上生长出SiOx（x在1～2之间）纳米线．分析900℃～1100℃下生长出来的SiOx纳米线发现，温度越高，纳米线越密集，表面也更光滑；分析不同温度梯度下生长出来的纳米线表明，硅片上温度梯度越小，生长的纳米线分布越均匀，直径也越均匀．并结合实验条件对SiOx纳米线的生长机理进行初步探讨．

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