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为了解铜管的氨腐蚀机理，采用电化学阻抗谱、扫描电镜（SEM）和失重试验对铜管在有氧条件下于不同浓度氨溶液中的腐蚀行为进行了研究。结果表明，氨含量小于100mg／L时，铜管腐蚀非常轻微，大于500mg／L时腐蚀加剧，浓度越高腐蚀越严重。氨浓度较低和较高时铜管腐蚀机理和产物不同：氨浓度小于2000mg／L时，铜管表面生成黑色产物膜[CuO和Cu（OH）2]，开路电位正移，阻抗增加，且该过程发生在前期6d，之后不再有明显变化，这说明产物膜的生成对铜管具有保护作用，铜管氨腐蚀发展迅速，一周之内趋于稳定；氨浓度大于