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[学位论文] 作者：周敏祺,,
来源：上海交通大学 年份：2013
作为光刻工艺中的主要缺陷之一，光刻胶倒胶缺陷对于最终的产品良率有着极大的影响。光刻胶倒胶缺陷的产生，很大一部分原因是由于晶圆表面接触角不佳。光刻的六甲基二硅胺烷（HMDS......
[期刊论文] 作者：周敏祺,,
来源：电子与封装 年份：2013
在光刻工艺中的显影步骤,显影液在溶解光刻胶的过程中,不同区域光刻胶的溶解速度存在着明显的差异,使得晶圆表面的显影反应存有时间差别。这种反应速率上的差别在实际的生产...
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