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[期刊论文] 作者：陈燕,佘秋明,吴爱林,宋新山,宋志棠,姚栋宁,吴良才,
来源：人工晶体学报 年份：2016
分别采用原子层沉积（ALD）和磁控溅射法（MS）在Si和石英衬底上制备TiO2薄膜,并进行退火处理。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）和紫外分光光度计对这两种方......
[期刊论文] 作者：张徐, 饶峰, 刘波, 彭程, 周夕淋, 姚栋宁, 郭晓慧, 宋,
来源：半导体学报 年份：2012
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[期刊论文] 作者：张徐,刘波,宋三年,姚栋宁,朱敏,饶峰,吴良才,宋志棠,封松,
来源：无机材料学报 年份：2013
采用CF4和Ar混合气体研究了新型相变材料Ti0.5Sb2Te3（TST）的刻蚀特性，重点优化和研究了刻蚀气体总流速、CF／Ar的比例、压力和功率等工艺参数对刻蚀形貌的影响。结果表明，当气体总......
[期刊论文] 作者：张徐,刘波,宋三年,姚栋宁,朱敏,饶峰,吴良才,宋志棠,封松林,,
来源：无机材料学报 年份：2013
采用CF4和Ar混合气体研究了新型相变材料Ti0.5Sb2Te3(TST)的刻蚀特性,重点优化和研究了刻蚀气体总流速、CF4/Ar的比例、压力和功率等工艺参数对刻蚀形貌的影响。结果表明,当...
[期刊论文] 作者：张徐,饶峰,刘波,彭程,周夕淋,姚栋宁,郭晓慧,宋三年,王良咏,成岩,吴良才,宋志棠,封松林,,
来源：半导体学报 年份：2012
The dry etching characteristic of Al_(1.3)Sb_3Te film was investigated by using a CF_4/Ar gas mixture.The experimental control parameters were gas flow rate int...
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