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[期刊论文] 作者：金奉柱, 崔瑩石, 劉聖烈, 張炳鉉, 柳在一, 李禹奉, 李貞,
来源：液晶与显示 年份：2006
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[期刊论文] 作者：金奉柱,崔瑩石,劉聖烈,張炳鉉,柳在一,李禹奉,李貞烈,,
来源：液晶与显示 年份：2006
为了获得高的开口率,有必要优化设计参数和工艺容差。通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀,但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小,因此,必须增加过孔的尺寸才行...
[期刊论文] 作者：金奉柱,崔瑩石,劉聖烈,張炳鉉,柳在一,李禹奉,李貞烈,Ju,
来源：液晶与显示 年份：2004
为了获得高的开口率,有必要优化设计参数和工艺容差.通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀,但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小,因此,必须增加过孔的尺寸才行....
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