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[会议论文] 作者：张青竹;毛淑娟;闫江;吴次南;,
来源：2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会 年份：2013
金属硅化物被广泛应用于微电子器件中的源、漏、栅极与金属电极间的接触,是制备纳米集成电路的关键材料之一.镍硅化物NiSi无明显尺寸效应、形成热预算小、耗硅量少且应力...
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