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[会议论文] 作者：徐尊平[1]刘洪[2]肖定全[2]余萍[2]朱建国[2],
来源：第十四届全国电介质物理、材料与应用学术会议 年份：2012
采用磁控溅射法在LNO/SiO2/Si基底上沉积了Mn/Y共掺杂的BST薄膜,沉积温度为400℃.研究了钛酸锶缓冲层对Mn/Y共掺的BST薄膜的微观结构及电学性质的影响.X射线衍射(XRD)和...
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