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[期刊论文] 作者：金圣雄 金原奭 柳在一 李禹奉 李贞烈,
来源：液晶与显示 年份：2006
成功地利用传统的等离子增强化学汽相沉积技术制备了纳米晶硅。为了提高生长初期的结晶速度，在PECVD设备和干法刻蚀设备中，利用H2／SF6等离子体对SiN，薄膜表面进行处理。在制备纳......
[期刊论文] 作者：全真永,姜昌宪,安星俊,田正牧,李贞烈,
来源：液晶与显示 年份：2006
采用传统的移动设备设计规则，基于PenTile RGBW^TM算法开发了a—SiTFT移动液晶显示屏。将AFFS模式和PenTile RGBW^TM算法相结合，制作的TFT液晶屏获得了超过200cd／m^2的高亮度，500...
[期刊论文] 作者：金原奭 金圣雄 崔大林 柳在一 李禹奉 李贞烈,
来源：液晶与显示 年份：2006
为克服大尺寸显示面板中反应时间的延迟问题，采用低阻栅线是十分有益的，同样在小尺寸面板上也存在这种相互匹配的过程。然而，由于Al较高的氧化速度，铝合金和ITO材料接触性能并不......
[期刊论文] 作者：刘圣烈,崔萤石,金奉柱,柳在一,李禹奉,李贞烈,
来源：液晶与显示 年份：2006
为了减少制造工艺的过程，改进的4-Mask工艺中采用Al基的数据线已得到进一步的完善。但这个工艺仍存在很多问题，主要是为减少工艺过程，而引入干法刻蚀对Al有腐蚀作用。本文应用CF......
[期刊论文] 作者：李文兵,朴韩竣,孙宁,金瑞润,皇甫鲁江,李贞烈,
来源：光机电信息 年份：2004
最近我们发展了AFFS技术,做出了32"LED背光源的LCD-TV,色域达到了105%,对比度1200:1.在140°所有视角的对比度达到了100以上,我们采用双轴补偿膜大大提高了颜色漂移的特性.这...
[期刊论文] 作者：宋泳锡,刘圣烈,柳在一,张炳铉,李禹奉,李贞烈,
来源：液晶与显示 年份：2006
为了获得更高性能的TFT—LCD面板，在光刻时保证精细的图形成像十分重要，其中，如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一。本文提供的研究中，我们只简单地改变了一下烘烤工艺......
[期刊论文] 作者：金奉柱,崔莹石,刘圣烈,张炳铉,柳在一,李禹奉,李贞烈,
来源：液晶与显示 年份：2006
为了获得高的开口率，有必要优化设计参数和工艺容差。通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀，但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小，因此，必须增加过孔的尺寸才行。为......
[期刊论文] 作者：柳世锺,金炫辰,洪光杓,安星俊,金天弘,田正牧,李贞烈,
来源：液晶与显示 年份：2006
利用标准TFT工艺，开发了集成a—Si行驱动（ARD）电路技术的5．08cm（2．0in）；和4．57cm（1．8in）移动液晶显示屏。通过整合RGBW Pen Tile矩阵技术和AFFS技术，可以获得很低功耗；应用球形玻璃纤维和优......
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