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[会议论文] 作者：李岩,张东平,张云姗,李慧,杨含彧,何晓欣,朱茂东,范平,
来源：中国真空学会2014年年会 年份：2014
采用直流反应磁控溅射工艺制备了VO2 薄膜.对比了在K9 玻璃基底上,TiO2 及V 缓冲层对氧化钒薄膜的影响.XRD 及光电特性测量结果都表明,添加TiO2 缓冲层后需要薄膜沉积温...
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