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[期刊论文] 作者：魏震, 汪为磊, 刘卫丽, 罗宏杰, 宋志棠,,
来源：应用化工 年份：2020
为了提升纳米硅溶胶在硅片上SiO2薄膜的化学机械抛光(CMP)效率,用硅烷偶联剂KH550在酸性条件下对硅溶胶进行表面改性。对得到的产物进行化学机械抛光及通过粒度分析仪分析氧...
[期刊论文] 作者：汪为磊,刘卫丽,白林森,宋志棠,霍军朝,,
来源：无机材料学报 年份：2017
为了提高氧化铝颗粒的CMP性能,本工作探索了一种合适的改性方法。同时,为了改善其化学机械性能,通过与其表面羟基的硅烷化化学反应和与Al和仲胺的络合两种作用,用N-（2-氨基乙...
[期刊论文] 作者：汪为磊,刘卫丽,白林森,宋志棠,霍军朝,
来源：无机材料学报 年份：2017
为了提高氧化铝颗粒的CMP性能,本工作探索了一种合适的改性方法.同时,为了改善其化学机械性能,通过与其表面羟基的硅烷化化学反应和与Al和仲胺的络合两种作用,用N-(2-氨基乙...
[期刊论文] 作者：王丹,汪为磊,秦飞,刘卫丽,施利毅,宋志棠,
来源：表面技术 年份：2017
目的 提高A向蓝宝石抛光速率。方法 分别采用诱导法和种子法制备了非球形和球形钴掺杂硅溶胶,并应用于A向蓝宝石的化学机械抛光。采用扫描电子显微镜（SEM）、电感偶合等离子体发......
[期刊论文] 作者：王丹,汪为磊,秦飞,刘卫丽,施利毅,宋志棠,,
来源：表面技术 年份：2017
目的提高A向蓝宝石抛光速率。方法分别采用诱导法和种子法制备了非球形和球形钴掺杂硅溶胶,并应用于A向蓝宝石的化学机械抛光。采用扫描电子显微镜(SEM)、电感偶合等离子体发...
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