搜索筛选:
搜索耗时0.0859秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 33 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：程耀进,
来源：应用光学 年份：2003
简要介绍了透明导电膜在X光像增强器中的应用,实验证明透明导电膜屏具有工艺简单、成本低等特点。...
[学位论文] 作者：程耀进,,
来源：南京理工大学 年份：2004
X光像增强器是一种新颖的光电成像器件，其综合能力甚佳，用途很广。但由于它的分辨率只有41p／mm，大大限制了它在工业探伤和微电子器件检测的使用用途。 本文系统地论述了影响X......
[期刊论文] 作者：程耀进,郭晖,,
来源：应用光学 年份：2009
鉴于近贴距离尤其第一近贴距离是影响分辨力最重要的因素,提出一种新的微光像增强器近贴距离在线测试方法。应用平行平板电容器原理,通过测量阴极面和微通道板输入面之间的电...
[期刊论文] 作者：徐江涛,程耀进,师宏立,,
来源：真空电子技术 年份：2008
为解决微光管光电阴极与管体铟封漏气问题，采用扫描电镜和X射线能谱仪对铟材和封接过程工艺质量进行全面分析，结果表明造成铟封漏气的根本原因是铟量小，铟表面氧化和吸附的杂质......
[期刊论文] 作者：程耀进,向世明,师宏立,,
来源：应用光学 年份：2007
分辨力和传递函数MTF是微光像增强器的2个重要参数。长期以来，人们对于三代微光像增强器阴极发出的电子初能量分布没有统一的认识，从而没有一个公认的分辨力和MTF计算模型。通......
[期刊论文] 作者：徐江涛,程耀进,刘峰,李敏,刘蓓蓓,,
来源：应用光学 年份：2013
摘要：为了解决三代像增强器管内阴极灵敏度下降问题，用质谱计对激活工艺过程进行质量检测，并确定了激活工艺参数，通过对阴极原子级洁净表面获得和激活铯、氧提纯工艺参数优化研究......
[期刊论文] 作者：程耀进,程宏昌,师宏立,李敏,
来源：真空电子技术 年份：2005
本文指出了电真空器件的高压放电和击穿类型,真空击穿和沿面闪络的物理机理、影响因素和预防措施....
[会议论文] 作者：张龙,何伟基,顾国华,程耀进,成伟,
来源：2012年全国光学工程博士生论坛 年份：2012
讨论了在复杂背景条件下采用EMCCD实现光子计数成像的处理策略，提出了一种二次阈值滤波方法并通过实验验证其有效性。根据EMCCD的成像模型，将EMCCD的输出图像表示为光子事...
[会议论文] 作者：张龙,何伟基,顾国华,程耀进,成伟,
来源：第10届全国光电技术学术交流会 年份：2012
讨论了在复杂背景条件下采用EMCCD实现光子计数成像的处理策略，提出了一种二次阈值滤波方法并通过实验验证其有效性。根据EMCCD的成像模型，将EMCCD的输出图像表示为光子事件、偏置噪声和伪光子噪声事件的集合。通过采集多幅EMCCD的输出图像，将光子事件检测问题转化......
[会议论文] 作者：陆震熙, 何伟基, 程耀进, 成伟, 陈钱,,
来源： 年份：2004
针对EMCCD成像系统存在增益值过低或增益值过高时图像质量下降的问题,提出了一种基于固定灰度级的自动增益控制算法。该算法通过计算当前帧图像的平均亮度,由系统曝光函数计...
[期刊论文] 作者：程耀进,石峰,郭晖,朱宇峰,袁晓曼,,
来源：应用光学 年份：2010
为了全面分析微通道板(MCP)参数对微光像增强器分辨力的影响,利用电子散射理论分析了MCP输出电子横向散射和MCP非开口面的电子散射情况,得到了MCP通道间距、输出电极结构和开...
[期刊论文] 作者：何伟基,司马博羽,程耀进,成伟,陈钱,,
来源：光学精密工程 年份：2012
考虑用传统的成像技术检测光生电荷信号时易受模数转换噪声干扰,本文提出了一种基于单光子灵敏雪崩光电二极管(GM-APD)的光子计数成像方法。该方法以单光子灵敏GM-APD作为探...
[期刊论文] 作者：徐均琪, 杭良毅, 苏俊宏, 程耀进,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2015
研究了工艺条件(沉积温度、真空度、蒸发束流)对LaTiO3薄膜光学和激光损伤特性的影响。采用椭偏法测量了薄膜的光学常数,分析了不同工艺条件下制备薄膜的折射率和消光系数,得...
[期刊论文] 作者：杭良毅,徐均琪,程耀进,苏俊宏,,
来源：应用光学 年份：2015
为了获得制备钛酸镧(LaTiO3)薄膜的最优工艺条件,采用电子束热蒸发技术在K9基底上制备了单层LaTiO3激光薄膜。研究了不同工艺条件对LaTiO3薄膜激光损伤特性的影响。研究结果...
[会议论文] 作者：司马博羽,陈钱,何伟基,程耀进,成伟,
来源：第10届全国光电技术学术交流会 年份：2012
根据单光子雪崩二极管的探测机理，分析了死区时间对其光子计数效率的影响.利用马尔科夫更新过程，推导了关于死时间和平均光子入射率的光子计数分布公式.并用蒙特卡洛仿真进......
[会议论文] 作者：何睿清,陈钱,何伟基,程耀进,成伟,
来源：2012年全国光学工程博士生论坛 年份：2012
单光子计数成像系统可以对单光子级别的微弱光进行探测，但其成像结果是光子数而非灰度值，所以传统的评价方式不适用于单光子计数成像系统。应用标准化互信息对单光子计数器......
[会议论文] 作者：徐均琪,杭良毅,苏俊宏,程耀进,
来源：中国真空学会2014年年会 年份：2014
采用电子束热蒸发技术制备了单层LaTiO3(H4)薄膜,研究了工艺条件(基片温度、真空度、蒸发束流)对其光学特性的影响.采用椭偏法测量了薄膜的光学常数,分析了不同工艺条件下制备薄膜的折射率和消光系数,得出工艺参数与薄膜光学性能的相互关系.研究结果表明,当基片......
[会议论文] 作者：司马博羽,陈钱,程耀进,成伟,何伟基,
来源：第10届全国光电技术学术交流会 年份：2012
根据单光子雪崩二极管的探测机理，分析了死区时间对其光子计数效率的影响.利用马尔科夫更新过程，推导了关于死时间和平均光子入射率的光子计数分布公式.并用蒙特卡洛仿真进行了验证.在此基础上，分析了单光子雪崩二极管死时间对光子计数成像对比度的影响.在背景光子......
[会议论文] 作者：陆震熙,何伟基,程耀进,成伟,陈钱,
来源：第10届全国光电技术学术交流会 年份：2012
针对EMCCD成像系统存在增益值过低或增益值过高时图像质量下降的问题，提出了一种基于固定灰度级的自动增益控制算法。该算法通过计算当前帧图像的平均亮度，由系统曝光函数计算出倍增增益调整值，调整倍增增益使下一帧图像亮度达到理想亮度值。论文通过分析研究EMCCD......
[期刊论文] 作者：徐江涛,程耀进,张太民,李敏,刘蓓蓓,刘峰,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2013
为了寻找三代像增强器管内阴极灵敏度下降产生的原因,用质谱计作为质量监测手段,通过对阴极原子级洁净表面获得、阴极激活铯、氧提纯工艺参数优化研究,所制备的透射式GaAs阴...
相关搜索：
