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[学位论文] 作者：董双幸,
来源：大连理工大学 年份：2020
感性耦合等离子体源(Inductively coupled plasma,ICP)是微电子刻蚀工艺中常用的高密度等离子体源之一。随着半导体芯片的集成度越来越高,器件的特征尺寸不断缩小,工业上对刻蚀等工艺的要求也越来越严格。为满足这些要求,人们提出使用脉冲调制射频等离子体。这......
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