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[期刊论文] 作者：边子夫,李晖,徐世海,刘卫丹,陈阳,高飞,朱磊,,
来源：微纳电子技术 年份：2017
主要研究了GaSb单晶片的化学机械抛光(CMP)。使用硅溶胶作为抛光液对切割、机械抛光后的GaSb单晶片进行了CMP实验。在实验中,通过调节抛光液配比、pH值等工艺参数,研究不同氧...
[期刊论文] 作者：徐世海,边子夫,高飞,张丽,程红娟,王健,李晖,
来源：微纳电子技术 年份：2021
研究了化学机械抛光(CMP)后AlN单晶片的清洗.将除蜡剂清洗法、RCA清洗法、食人鱼溶液清洗法以及丙酮和异丙醇(IPA)的混合溶液清洗法等进行组合,对抛光后的AlN单晶片表面进行...
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