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[学位论文] 作者：郑博聪,
来源：大连理工大学 年份：2016
本文旨在以高功率调制脉冲磁控溅射（Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering, MPPMS）、等离子体基离子注入（Plasma-Based Ion Implantation, PBⅡ）和等离子体基低能离子注入（Plasma-Based Low-Energy Ion Implantation, PBLEⅡ）三种脉冲等离子体工艺为对象,建立......
[会议论文] 作者：郑博聪;雷明凯;,
来源：第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛 年份：2014
在等离子体基离子注入(PBII)工艺中，由等离子体扩散造成的非均匀等离子体密度分布和多脉冲条件下短脉冲间歇时间内等离子体的不完全回复对鞘层扩展动力学及注入效率有着重...
[会议论文] 作者：李义,郑博聪,雷明凯,
来源：第十五届全国等离子体科学技术会议 年份：2011
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[会议论文] 作者：车宏龙;孟迪;郑博聪;雷明凯;,
来源：第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛 年份：2014
调制脉冲磁控溅射(MPPMS)是近年来发展的一种新的高功率脉冲磁控溅射(HP-PMS)技术.其可以在产生高等离子体密度的同时保证低的金属离子能量,从而得到更加可控的薄膜结构....
[会议论文] 作者：崔岁寒,吴忠振,肖舒,郑博聪,刘亮亮,
来源：第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议 年份：2016
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术能够产生1019 m-3以上的高密度等离子体和较高的溅射材料离化率,采用其放电沉积的薄膜具有高致密度、高结合力和高综合性能等优势,已经成为物理气相沉积领域的新宠.然而,HiPIMS技术也具有沉积速率低、放电不稳定、溅射材料离化率......
[会议论文] 作者：郑博聪,吴忠振,崔岁寒,肖舒,刘亮亮,
来源：第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议 年份：2016
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)是一种新型的电离物理气相沉积工艺，通过在磁控靶上施加高功率密度、低占空比的单极脉冲，能够产生1018～1019 m–3的高密度等离子体，溅射粒子离化率可高达90％。由于磁控靶放电跑道附近等离子体参数通常难以测量，模型研究仍是目前优化HiPIMS......
[会议论文] 作者：郑博聪,吴忠振,肖舒,崔岁寒,刘亮亮,潘锋,
来源：中国真空学会2016学术年会 年份：2016
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电可产生高密度、高溅射粒子离化率的等离子体，能够在基片表面获得高通量的靶材离子束流和自离子辅助的沉积效果，沉积薄膜的显微结构、膜基结合力等较常规磁控溅射工艺有明显改善。高密度靶材离子的产生与HiPIMS 放电自溅射的产生和......
[会议论文] 作者：郑博聪,吴忠振,崔岁寒,肖舒,刘亮亮,潘锋,
来源：中国真空学会2016学术年会 年份：2016
基于高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电区域的粒子平衡和能量平衡,并考虑高功率密度下放电跑道上形成局部电势峰对离子流出的增强效应,建立了描述HiPIMS 放电的等离子体整体模型。将放电电压和电流实验测量值作为输入参数,研究了HiPIMS 放电模型对不同阴极材料(Cu......
[期刊论文] 作者：崔岁寒, 吴忠振, 肖舒, 刘亮亮, 郑博聪, 林海, 傅劲,
来源：物理学报 年份：2017
高功率脉冲磁控溅射(Hi PIMS)技术被提出以来就受到广泛关注,其较高的溅射材料离化率结合适当的电磁控制,可产生高致密度、高结合力和高综合性能的涂层,但其沉积速率低、放电...
[期刊论文] 作者：崔岁寒, 吴忠振, 肖舒, 刘亮亮, 郑博聪, 林海, 傅劲裕,,
来源：物理学报 年份：2017
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[会议论文] 作者：肖舒, 吴忠振, 崔岁寒, 刘亮亮, 郑博聪, 林海, 傅劲裕,,
来源：珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨广东省真空学会2016年学术年 年份：2016
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[期刊论文] 作者：崔岁寒,吴忠振,肖舒,刘亮亮,郑博聪,林海,傅劲裕,田修波,,
来源：物理学报 年份：2017
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）技术被提出以来就受到广泛关注，其较高的溅射材料离化率结合适当的电磁控制，可产生高致密度、高结合力和高综合性能的涂层，但其沉积速率低、放电不稳定......
[期刊论文] 作者：肖舒,吴忠振,崔岁寒,刘亮亮,郑博聪,林海,傅劲裕,田修波,,
来源：物理学报 年份：2016
高功率脉冲磁控溅射以较高的溅射材料离化率及其所带来的高致密度、高结合力和高综合性能成为物理气相沉积领域的新宠,然而其沉积速率低、放电不稳定、溅射材料离化率不一等...
[会议论文] 作者：肖舒[1],吴忠振[1],崔岁寒[1],刘亮亮[1],郑博聪[1],林海[1],傅劲裕[2],田修波[1],朱剑豪[2],潘锋[1],
来源：珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨2016年广东省真空学会学术年会 年份：2016
高功率脉冲磁控溅射技术被提出以来就受到业界广泛关注,其较高的溅射材料离化率结合适当的电磁控制,可产生高致密度、高结合力和高综合性能的涂层,但其沉积速率低、放电不稳...
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