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[学位论文] 作者：金钟元,,
来源： 年份：2009
著作权制度是为保护文学作品或艺术作品的作者,并使其对文化发展做出贡献而设立的制度。所谓著作,就是文学学术范围内的或是艺术范围内的作品,包括小说、诗篇、论文等语言作...
[期刊论文] 作者：金钟元,
来源：能源季刊 年份：1992
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[学位论文] 作者：金钟元,
来源：对外经济贸易大学 年份：2011
随着中国市场竞争力的不断加强和对外经济政策进一步开放，中韩贸易合作日益增强，韩国对中国直接投资也不断增加。本文主要对韩国在华直接投资与中韩贸易之间的相互促进关系进行......
[期刊论文] 作者：金钟元,黄强,
来源：陕西水力发电 年份：1992
为改善陕西电网的运行情况和解决调峰问题,在陕西省水力发电工程学会的理事会上曾多次议及建议修建西安翠华山抽水蓄能电站的事.为此由水工及水电站建筑专业委员会主持,协同...
[期刊论文] 作者：张晓宏,金钟元,
来源：陕西水力发电 年份：1992
本文对碧口水电站压力引水系统的非恒定流情况进行了分析计算,同时得出了引水系统指定断面的压力变化过程;水轮发电机组的转速变化过程;调压井的水位波动过程及相应的最大最...
[期刊论文] 作者：金钟元,韩阶平,
来源：半导体学报 年份：1989
本文用自制的磁控反应离子刻蚀设备研究了磁场对反应离子刻蚀速率的影响.实验结果表明,磁场的引入使反应离子刻蚀速率明显提高.与不加磁场相比,加磁场后刻蚀速率可提高6-10倍...
[期刊论文] 作者：金钟元,韩阶平,马俊如,
来源：真空科学与技术 年份：1988
一、前言单片刻蚀机发展的必要性为满足VLSI对微细图形加工的需要,人们发展了多种干法刻蚀工艺。干法刻蚀工艺较之传统的湿法工艺有极大优越性。在生产上,它降低了化学成本,...
[期刊论文] 作者：金钟元,韩阶平,马俊如,
来源：半导体学报 年份：1989
本文用自制的磁控反应离子刻蚀设备研究了磁场对反应离子刻蚀速率的影响.实验结果表明,磁场的引入使反应离子刻蚀速率明显提高.与不加磁场相比,加磁场后刻蚀速率可提高6-10倍...
[期刊论文] 作者：韩阶平,王培大,徐卫东,金钟元,陈梦真,
来源：半导体学报 年份：1988
本文提出一种改变SiO_2表面特性的新方法.当用一定能量的电子轰击二氧化硅表面时,二氧化硅的腐蚀特性发生了很大变化.在同一工艺条件下,未经电子轰击的二氧化硅腐蚀速率为700...
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