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[学位论文] 作者:陈倪娇,,
来源: 年份:2010
本文采用圆形靶磁控溅射沉积镀铜,研究了励磁电流对磁控靶刻蚀轨迹以及励磁电流与靶基距对镀层分布均匀性的影响,并以此为依据设计了程控励磁电源,利用计算机控制线圈中的溅...
[期刊论文] 作者:甄淑颖,陈倪娇,唐光泽,马欣新,,
来源:金属热处理 年份:2013
主要研究了磁控溅射铜靶材刻蚀行为。通过改变同轴线圈中励磁电流的大小来调节铜靶表面磁场的分布,研究不同励磁电流及时间下刻蚀环的形貌,并研究了刻蚀形貌随时间的变化规律...
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