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主要研究了磁控溅射铜靶材刻蚀行为。通过改变同轴线圈中励磁电流的大小来调节铜靶表面磁场的分布,研究不同励磁电流及时间下刻蚀环的形貌,并研究了刻蚀形貌随时间的变化规律。采用轮廓仪测量靶材刻蚀环的轮廓。结果表明,采用不同励磁电流的靶材刻蚀形貌为高斯曲线状,刻蚀深度与励磁电流及刻蚀时间呈线性关系,刻蚀环的宽度随刻蚀时间的增加先增加,然后达到一个固定值34 mm,刻蚀环的中心位置距靶圆心的距离随励磁电流增加从26 mm减小到20 mm。