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R.F.平面磁控溅射ZnO压电薄膜的特性
[期刊论文] 作者：T.Yamamoto,T.Shiosaki,A.Kawabata,肖韵雪, 来源：压电与声光 年份：1981
用高淀积速率R.F.平面磁控溅射已制备出具有极好结晶取向和表面平整度的ZnO压电薄膜.通过X-射线衍射,扫描电子显微镜,反射式电子衍射,光测量和机电测量对这些薄膜进行了详细...
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