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软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化
[期刊论文] 作者：陈静,石剑,刘正堂,DECANINI Dominique,H, 来源：纳米技术与精密工程 年份：2012
报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果．利用软膜紫外光固化纳米压印技术，首先制备了线宽／间距均为200nm的纳米光栅结构．然后采用反应离子刻蚀的......
软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化
[期刊论文] 作者：陈静,石剑,刘正堂,DECANINI Dominique,H, 来源：纳米技术与精密工程 年份：2004
报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻...
软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文)
[期刊论文] 作者：陈静,石剑,刘正堂,DECANINI Dominique,HAGHIRI-GOSNET Anne-Marie,, 来源：纳米技术与精密工程 年份：2012
报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻...
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