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[期刊论文] 作者：Leo Archer,Han-Mil Kim,Jong-Kook Song,Eun-Su Rho,Jae Yong Park,Won Ho Cho,,
来源：电子工业专用设备 年份：2007
在半导体制造流程中,晶圆清洗正在成为一种更加关键的工序模块.因为集成度的提高,需制定适合于清洗机及更高器件结构均匀性的要求.清洗的有效性最终会影响器件的性能和成品率...
[期刊论文] 作者：Yong In Park,Tae Jun Ahn,Sung Ki Kim,Jae Yong Park,Juhn S.Yoo,Chang Yeon Kim,Chang Dong Kim,孙海涛,
来源：现代显示 年份：2003
我们提出并开发了一种先进的6步光掩模工艺,可用于制备有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)中p型沟道多晶硅薄膜晶体管(TFT)面板。通过去除电源线(Vdd)和触排(bank)光处理工艺,将...
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