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[期刊论文] 作者：沈鸿烈,杨颖,SAKAMOTO Isao,KOIKE Masaki,MAKITA Yunosuke,,
来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China 年份：2005
Helicon plasma sputtering of Fe/Si multilayer followed by thermal annealing in Ar atmosphere was used to fabricate β-FeSi_2 films. [Fe 0.5nm/Si 1.6nm]_ 120...
[会议论文] 作者：沈鸿烈,鲁林峰,尹玉刚,SAKAMOTO Isao,KOIKE masaki,MAKITA Yunosuke,
来源：第九届中国太阳能光伏会议 年份：2006
本文采用磁控溅射方法结合多层膜结构制备了优质β-FeSi2薄膜.[Fe0.5nm/Si1.6nm]120多层膜经过900℃退火2小时后,样品呈现β(220)/(202)择优取向,而Fe单层膜制备的样品则无择优取向.原子力显微镜分析表明,多层膜法制备的样品表面均方根粗糙度约为16nm,约为单层......
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