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[期刊论文] 作者：Nobuyoshi Koshida,Yoshio Wachi,朱胜娥,
来源：微电子学 年份：1985
实验研究了高密度(CH)_X膜的离子注入n型掺杂。在用相当低的能量(12KeV)的钠离子进行了注入的(CH)_x膜上观察到明显的掺杂效应。(CH)_x膜的注入区和原始区(p型)之间显示了P-n...
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