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三层氮化硅薄膜相关论文
用PECVD技术间断性沉积三层氮化硅薄膜的研制及应用
物理冶金法提纯多晶硅技术具有产量大、成本低、不涉及化学过程及设备价格较低等优点。但与常规化学法提纯的光伏多晶硅材料相比,硼......
会议
PECVD技术
三层氮化硅薄膜
间断性沉积
钝化
物理冶金多晶硅太阳电池
物理冶金多晶硅高效电池的间断性沉积三层氮化硅薄膜的研制及应用
用等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术,在物理冶金多晶硅高效太阳电池表面间断性沉积三层氮化硅薄膜。优化工艺后用于小批量生......
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三层氮化硅薄膜
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